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直流濺射沉積納米晶氧化鎳薄膜及電化學(xué)性能

文檔作者：蔡羽等文檔來(lái)源：河南科技大學(xué)			點(diǎn) 擊數(shù)：
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采用直流濺射并結(jié)合熱處理丁藝制備氧化鎳薄膜，利用x射線衍射儀(XRD)、掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDX)考察退火溫度對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)、形貌和組成的影響，并通過(guò)恒流充放電技術(shù)初步考察薄膜的電化學(xué)性能。結(jié)果表明，在400～500 oC退火溫度下制備了表面光滑、結(jié)構(gòu)致密的NiO薄膜；隨著退火溫度的升高，薄膜的晶粒尺寸逐漸增大，晶形趨于完整；其中，500 oC下退火2 h獲得的NiO薄膜具有良好的電化學(xué)循環(huán)穩(wěn)定性，有望成為高性能的全同態(tài)薄膜鋰電池陽(yáng)極材料。