本標準規定了硅烷氣體的技術要求、試驗方法、標志、包裝、貯運及安全的內容。

本標準適用于硅化鎂法、氫化鋁鈉還原四氟化硅法、氯硅烷歧化工藝法制備的電子工業用硅烷。 ?它主要用于制作高純多晶硅、二氧化硅的低溫化學氣相淀積、氮化硅化學氣相淀積、多晶硅隔離層、多晶硅歐姆接觸層和異質或同質硅外延生長原料以及離子注入源和激光介質等，還可用于制作太陽能電池、光導纖維和光電傳感器等。