本文件規定了利用亞硫酸/二氧化硫蒸氣測定金或鈀鍍層孔隙率的設備和方法，特別是用于測定電觸頭上的電鍍層和包金層孔隙率的設備與方法。本文件不適用于孔隙率具體數值的符合性判定。
本文件不適用于通過孔隙的位置和腐蝕產物來預測鍍層觸點的電性能。
本文件適用于定量描述孔隙率小于100 /cm2的金或鈀鍍層。
本文件適用于定性描述與比較孔隙率大于或等于100 /cm2的金或鈀鍍層。